DNP(다이 닛폰 프린팅)가 회로 선폭 10나노미터의 나노임프린트 템플릿 개발에 성공했어요. 10나노미터라고 하면 감이 잘 안 오실 수 있는데, 머리카락 두께의 약 1만 분의 1 수준이에요. 정말 상상하기 어려운 초미세 세계의 이야기죠.
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DNP 공식 로고
반도체 업계에서는 지금 치열한 소형화 경쟁이 벌어지고 있어요. 스마트폰, AI 서버, 자율주행차 등 첨단 기기들이 더 작고 강력한 칩을 요구하고 있거든요. 이런 수요를 충족시키려면 반도체 회로를 더 촘촘하게 새겨 넣는 기술이 필수예요.
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10nm 선폭 패턴이 적용된 NIL 템플릿 이미지
현재 최첨단 반도체 생산에는 EUV(극자외선) 리소그래피 장비가 주로 사용되고 있어요. 문제는 이 장비가 엄청나게 비싸다는 점이에요. 장비 한 대 가격만 수천억 원에 달하고, 운영하는 데 드는 전력 소모량도 어마어마하죠. 반도체 공장 하나 짓는 데 투자 부담이 눈덩이처럼 불어나는 이유 중 하나예요.
DNP가 개발한 나노임프린트 리소그래피(NIL) 템플릿은 이런 고민을 해결할 수 있는 대안이에요. 쉽게 말해서 도장을 찍듯이 패턴을 새기는 방식인데, EUV 장비 없이도 초미세 회로를 만들 수 있게 해주는 거예요.
이번에 DNP가 적용한 핵심 기술은 자가정렬 이중 패터닝(SADP)이에요. 한 번 만든 패턴 위에 박막을 입히고 깎아내는 과정을 통해 패턴 밀도를 두 배로 높이는 기술이죠. 덕분에 기존 장비로도 더 정밀한 회로를 구현할 수 있게 됐어요.
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SADP 공정 과정을 보여주는 도식
특히 주목할 만한 건 에너지 효율이에요. NIL 기술을 활용하면 기존 ArF 이머전이나 EUV 노출 공정 대비 전력 소비를 약 10분의 1 수준으로 줄일 수 있다고 해요. 반도체 산업의 탄소 발자국을 줄이는 데 큰 도움이 될 수 있는 수치죠.
DNP는 2003년부터 무려 20년 넘게 NIL 템플릿 연구를 해왔어요. 오랜 기간 축적된 기술력이 이번 성과로 이어진 셈이에요. 회사는 현재 평가 작업을 진행 중이며, 2027년 양산을 목표로 하고 있어요.
사업 목표도 구체적으로 세웠어요. 2030 회계연도까지 NIL 관련 매출 40억 엔 증가를 달성하겠다는 계획이에요. 생산 능력도 적극적으로 확대할 예정이라고 하네요.
이번 개발이 의미 있는 이유는 반도체 생산의 진입 장벽을 낮출 수 있다는 점이에요. 천문학적인 EUV 장비 투자 없이도 최첨단 반도체를 만들 수 있는 길이 열리는 거죠. 중소 규모 파운드리 기업들에게는 새로운 기회가 될 수 있어요.
반도체 기술 경쟁이 갈수록 치열해지는 지금, DNP의 이번 성과가 업계 판도에 어떤 영향을 미칠지 기대가 돼요. 2027년 양산이 계획대로 진행된다면, 반도체 제조 생태계에 의미 있는 변화를 가져올 수 있을 것 같아요. 앞으로의 행보를 지켜봐야겠어요.
📎 관련 링크
DNP 공식 홈페이지: https://www.dnp.co.jp/eng/
사진 및 멀티미디어 자료: https://www.businesswire.com/news/home/20251208175160/en
